| 发明名称 | 包括用于沉浸式光刻装置的传送区的环境系统 | ||
| 摘要 | 一种用于控制光学组件(16)与器件(30)之间间隙(246)内的环境的环境系统(26)包括：流体屏障(254)，沉浸流体系统(252)，和传送区(256)。流体屏障(254)位于器件(30)附近，并且将传送区(256)保持在间隙(246)附近。沉浸流体系统(252)输送填充间隙(246)的沉浸流体(248)。传送区(256)将至少一部分邻近流体屏障(254)和器件(30)的沉浸流体(248)输送离开器件(30)。沉浸流体系统(252)能包括流体清除系统(282)，其与传送区(256)流体相连。传送区(256)能够用多孔金属制成。 | ||
| 申请公布号 | CN1774668A | 申请公布日期 | 2006.05.17 |
| 申请号 | CN200480009673.8 | 申请日期 | 2004.04.01 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 托马斯·W·诺万克;安德鲁·J·黑兹尔顿;道格拉斯·C·沃特森 |
| 分类号 | G03B27/42(2006.01) | 主分类号 | G03B27/42(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 秦晨 |
| 主权项 | 1.一种装置，包括：台，用于固定工件；刻线板台，用于固定限定图像的刻线板；投影系统，其包括照射源和光学元件，该投影系统用于将由刻线板限定的图像投影到工件上的曝光区；间隙，其位于光学元件和工件之间，该间隙被沉浸流体充满；和多孔材料，其邻近间隙放置，该多孔材料包括多个用于收集离开间隙的沉浸流体的通道。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||