| 发明名称 | 成像设备 | ||
| 摘要 | 一种成像设备，包括：多个载像构件；一个曝光单元，所述曝光单元用于将各载像构件暴露于图像光之下；显影装置，所述显影装置为各个载像构件而设置，用于通过所述曝光装置将所述载像构件上所形成的静电潜像显影成各自的调色剂图像；图像加热装置，所述图像加热装置用于将转印到记录材料上的调色剂图像加热；一个第一空气路径，所述第一空气路径与每个上述显影装置相对设置，并在每个所述显影装置的纵向方向上延伸；及一个第二空气路径，所述第二空气路径基本上与所述图像加热装置隔离设置，用于将空气从所述成像设备外部送到所述第一空气路径，其中所述第一空气路径设置在与所述显影装置相对的曝光单元壁表面上。 | ||
| 申请公布号 | CN1773396A | 申请公布日期 | 2006.05.17 |
| 申请号 | CN200510119419.X | 申请日期 | 2005.11.11 |
| 申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 森正和 |
| 分类号 | G03G21/20(2006.01);G03G15/06(2006.01);G03G15/20(2006.01) | 主分类号 | G03G21/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 朱德强 |
| 主权项 | 1.一种成像设备，包括：多个载像构件；曝光单元，所述曝光单元用于将载像构件暴露于图像光之下；数个显影装置，所述显影装置为各个载像构件而设置，用于通过所述曝光装置将所述载像构件上所形成的静电潜像显影成各自的调色剂图像；图像加热装置，所述图像加热装置用于将转印到记录材料上的调色剂图像加热；第一空气路径，所述第一空气路径与所述显影装置中的每个相对设置，并且在所述显影装置中的每个的纵向方向上延伸；第二空气路径，所述第二空气路径设置成基本上与所述图像加热装置隔离，用于将空气从所述成像设备外部送到所述第一空气路径，其中所述第一空气路径设置在与所述显影装置相对的曝光单元壁表面上。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||