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发明名称 PLASMA PROCESSING APPARATUS AND IMPEDANCE ADJUSTMENT METHOD
摘要
申请公布号 KR20060046381(A) 申请公布日期 2006.05.17
申请号 KR20050046812 申请日期 2005.06.01
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 HIRANO TAICHI
分类号 H01L21/205;H01L21/00 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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