发明名称 点光源发光二极管结构及其制造方法
摘要 本发明有关一种点光源发光二极管结构及其制造方法。此方法至少包括:提供一基板,于基板之上形成一磊晶结构,此一磊晶结构至少包括缓冲层、多个n型或p型局限层、以及主动层;于磊晶结构之上形成第一电极层;形成一绝缘层与磊晶结构以及第一电极层接合;形成一金属层与第一电极以及该绝缘层接合;图案化金属层,在金属层内形成一接触层以及一连接桥;平台蚀刻磊晶结构,至少在接触层下方剩余的磊晶结构内形成一发光区;形成一第二电极;沉积并图案化钝化层,以形成一打线层。
申请公布号 CN1773733A 申请公布日期 2006.05.17
申请号 CN200410090544.8 申请日期 2004.11.08
申请人 晶元光电股份有限公司 发明人 颜慈莹;赖韩棕;吴仁钊;杜全成
分类号 H01L33/00(2006.01) 主分类号 H01L33/00(2006.01)
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 代理人 任永武
主权项 1.一种点光源发光二极管结构,至少包含:一基板;一磊晶结构,位于该基板之上,其中该磊晶结构至少包括一图案,该图案位于该磊晶结构光出射表面,该图案至少包括一发光区;一第一电极,位于该磊晶结构之上;一绝缘层,位于该磊晶结构之上,且该绝缘层与该第一电极接合;一接触层,位于该第一电极层上;一打线层,位于部份的该绝缘层上;以及一连接桥,位于另一部份的该绝缘层上,其中该连接桥连接该接触层以及该打线层,且该连接桥具有一宽度,而该宽度小于该发光区的直径范围的二分之一。
地址 台湾省新竹科学工业园区新竹市力行五路5号