| 发明名称 | CMOS图像传感器及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种CMOS图像传感器及其制造方法，通过防止在微透镜的周边部分的不良光折射特性来提高图像传感器的光接收性能。该CMOS图像传感器包括至少一个由各向异性蚀刻形成的微透镜，该微透镜具有聚焦中心线、透镜部分、以及周边透镜部分，其中该聚焦中心线通过该透镜部分，周边透镜部分围绕该透镜部分。透镜部分具有基于第一半径的第一凸曲率，周边透镜部分具有基于大于第一半径的第二半径的第二凸曲率。 | ||
| 申请公布号 | CN1773714A | 申请公布日期 | 2006.05.17 |
| 申请号 | CN200510115664.3 | 申请日期 | 2005.11.08 |
| 申请人 | 东部亚南半导体株式会社 | 发明人 | 李启勋 |
| 分类号 | H01L27/146(2006.01);H01L21/822(2006.01) | 主分类号 | H01L27/146(2006.01) |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 余刚 |
| 主权项 | 1.一种CMOS图像传感器，包括：至少一个微透镜，通过各向异性蚀刻形成，以得到聚焦中心线、中央透镜部分、以及周边透镜部分，其中，所述聚焦中心线通过所述中央透镜部分，且其中所述周边透镜部分围绕所述中央透镜部分。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||