| 发明名称 | 抗蚀剂和蚀刻副产品除去组合物及使用该组合物除去抗蚀剂的方法 | ||
| 摘要 | 一种抗蚀剂除去组合物，具有除去抗蚀剂、聚合物、有机金属聚合物和蚀刻副产品如金属氧化物的优异性能，该抗蚀剂除去组合物不侵蚀暴露于组合物中的下层并且在清洗后不留下残余物，该抗蚀剂除去组合物含烷氧基N-羟烷基链烷酰胺和溶胀剂。 | ||
| 申请公布号 | CN1256629C | 申请公布日期 | 2006.05.17 |
| 申请号 | CN02108303.7 | 申请日期 | 2002.03.28 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 朴东镇;金经大;全相文;黄震虎;孙一现;朴相五;田弼权 |
| 分类号 | G03F7/42(2006.01);C11D7/32(2006.01) | 主分类号 | G03F7/42(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王杰 |
| 主权项 | 1.一种抗蚀剂除去组合物，包括：烷氧基N-羟烷基链烷酰胺；和溶胀剂，其中所述溶胀剂为羟基胺盐。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||