发明名称 | 改善的椭偏测量超薄膜的方法和装置 | ||
摘要 | 一种进行超薄膜的椭偏测量的方法,包括导向入射到样品表面上的偏振光束,接收来自所述样品表面的初始反射光束,并一次或多次再次导向所述初始反射光束返回到所述样品表面上,以产生最终的反射光束。通过检偏器在探测器处接收所述最终的反射光束,以确定所述超薄膜的特征。 | ||
申请公布号 | CN1773250A | 申请公布日期 | 2006.05.17 |
申请号 | CN200510117558.9 | 申请日期 | 2005.11.04 |
申请人 | 国际商业机器公司 | 发明人 | C·斯特罗基亚-里韦拉 |
分类号 | G01N21/21(2006.01);H01L21/66(2006.01) | 主分类号 | G01N21/21(2006.01) |
代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 于静;杨晓光 |
主权项 | 1.一种进行超薄膜的椭偏测量的方法,包括以下步骤:导向入射到样品表面上的偏振光束;接收来自所述样品表面的初始反射光束,并一次或多次再次导向所述初始反射光束返回到所述样品表面上,以产生最终的反射光束;以及通过检偏器在探测器处接收所述最终的反射光束,以确定所述超薄膜的特征。 | ||
地址 | 美国纽约 |