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发明名称
高度阵列式排列具掺杂元素之P型氧化锌奈米结构制造方法
摘要
本发明一种高度阵列式排列具掺杂元素之P型氧化锌奈米结构制造方法,其系在镀有氧化锌薄膜的矽基板上,经由化学溶液法在低温(55–95℃)环境下成长阵列式排列之氧化锌奈米结构,接着再经过氨气(NH3)电浆处理使氮离子藉着表面吸附或缺陷路径来扩散而形成氮掺杂P型氧化锌奈米结构。因此,本发明可制造规则排列的氮掺杂氧化锌奈米线,并且可应用在p–n接面和半导体异质结构的光电元件上,具有高可靠、低热处理成本、快速热处理、元件产出效率高等功效。
申请公布号
TW200616100
申请公布日期
2006.05.16
申请号
TW093133302
申请日期
2004.11.02
申请人
国立交通大学
发明人
陈三元;林晋庆;陈虹蓓
分类号
H01L21/44
主分类号
H01L21/44
代理机构
代理人
林火泉
主权项
地址
新竹市大学路1001号
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