发明名称 高度阵列式排列具掺杂元素之P型氧化锌奈米结构制造方法
摘要 本发明一种高度阵列式排列具掺杂元素之P型氧化锌奈米结构制造方法,其系在镀有氧化锌薄膜的矽基板上,经由化学溶液法在低温(55–95℃)环境下成长阵列式排列之氧化锌奈米结构,接着再经过氨气(NH3)电浆处理使氮离子藉着表面吸附或缺陷路径来扩散而形成氮掺杂P型氧化锌奈米结构。因此,本发明可制造规则排列的氮掺杂氧化锌奈米线,并且可应用在p–n接面和半导体异质结构的光电元件上,具有高可靠、低热处理成本、快速热处理、元件产出效率高等功效。
申请公布号 TW200616100 申请公布日期 2006.05.16
申请号 TW093133302 申请日期 2004.11.02
申请人 国立交通大学 发明人 陈三元;林晋庆;陈虹蓓
分类号 H01L21/44 主分类号 H01L21/44
代理机构 代理人 林火泉
主权项
地址 新竹市大学路1001号