发明名称 光阻清洗剂
摘要 一种包含单甲基醚丙二醇(PGME)或单甲基醚丙二醇衍生物与环己酮(ANONE)或环己酮(ANONE)衍生物成分之光阻清洗剂。具有下列特点:对人体具极低毒性,使用上具安全性,且无令人不愉快气味;不会对环境造成污染,且其废液及废水容易处理;对光阻材料层具有良好的溶解度,适宜的挥发性,及优越的清洗能力及良好于不同光阻之间相容性;能于室温储存,成本低廉,且不需更换用设备与生产条件对人体具极低毒性,使用上具安全性,且无令人不愉快气味;不会对环境造成污染,且其废液及废水容易处理。
申请公布号 TW200615698 申请公布日期 2006.05.16
申请号 TW093134044 申请日期 2004.11.05
申请人 新应材股份有限公司 发明人 许铭案;郭光埌;蔡牧霖;戴杏如
分类号 G03F7/16 主分类号 G03F7/16
代理机构 代理人 方嘉和
主权项
地址 桃园县龙潭乡渴望路185号1楼
您可能感兴趣的专利