| 摘要 |
一种在一基材上测量一尺寸的方法，其中以周期P之主要节距重复之标称(nomimal)特征尺寸提供一目标图案(455)，且垂直主要方向具有一预定变化。之后照射形成于基材上之目标图案(455)，使至少一非零级绕射级数被侦测。非零级绕射级数对相对于标称之印刷特征尺寸变化之回应，系用于决定在基材上之关注的尺寸，如关键尺寸或叠对。一种执行本发明之方法的装置，包含一照射源(410)、供侦测非零级绕射级数之一侦测器(460)，供定位相对于目标(455)之照射源(410)之一手段，以在侦测器侦测来自目标之一或多非零级绕射级数。 |
