晶片之叠对量测标记

摘要

使用于半导体装置制造之叠对量测方法中，一叠对对准记号有助于对准及／或半导体晶圆结构上的两层之对准误差量测，或同一层的不同曝光之对准误差量测。本发明系关于一叠对量测记号，其系足够小以致可置于半导体装置之主动区域内，并结合适当量测方法，其结果可改善量测精确性。