电子束曝光装置

摘要

提供一种抑制电子束的变动的电子束曝光装置及电子束曝光方法。本发明的解决手段本发明的电子束曝光装置100是在旋转阻材层所形成的圆形基板16的状态藉由照射电子束3进行曝光。该电子束曝光装置100是具备：聚焦从电子枪2所出射的电子束3的聚焦透镜4，及限制通过聚焦透镜4的电子束的电流控制孔径5，及将藉由电流控制孔径5所限制的电子束作成大约平行的照射透镜6。又，因应于圆形基板16上的照射位置而藉由变更由聚焦透镜4所产生的聚焦度，来控制电子束电流。