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发明名称
用于在晶圆上沈积薄膜之装置
摘要
提出一种可以有效地使用一具有高蒸发温度之化学原料之薄膜沈积装置。此薄膜沈积装置包含:用以于一晶圆上沈积一薄膜之一处理室,用以容纳液态化学原料以供给处理室之一小型容器,以及用以蒸发于小型容器内沸腾之液态化学原料并将已蒸发之化学原料供予处理室之一蒸发器。其中之蒸发器藉由一与该处理室结合之一转换器模组被装设于处理室之上表面或侧面。一介于蒸发器和处理室间之第一气体输送线于该转换器模组内形成。
申请公布号
TW200616050
申请公布日期
2006.05.16
申请号
TW094138210
申请日期
2005.11.01
申请人
IPS股份有限公司
发明人
林弘周;李相奎;徐泰旭;张镐承
分类号
H01L21/205;C23C16/455
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
林镒珠
主权项
地址
韩国
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