发明名称 镧锶锰氧阶梯式接面的室温穿隧磁阻
摘要 镧锶锰氧(La0.7Sr0.3MnO3,LSMO)穿隧磁阻(TMR,tunneling magnetoresistance)接面以一个高阶梯式角度制作于钛酸锶(SrTiO3,STO)基座的阶梯式面(001)上。本发明推论出穿隧元件是一个控制机构,而表面边界的电荷载体控制穿隧导电率。亦首度在室温观测到镧锶锰氧(La0.7Sr0.3MnO3,LSMO)之穿隧元件之穿隧导电现象,显现其应用价值。制程简单、设计容易;且成功地以镧锶锰氧(La0.7Sr0.3MnO3,LSMO)薄膜制作阶梯式穿遂磁阻元件,其最大磁阻达30%(在5K时),且在室温以上仍有穿遂磁阻。另外,最佳化阶梯式镧锶锰氧(La0.7Sr0.3MnO3,LSMO)穿遂磁阻元件之阶梯角度大于70°,且0.5<薄膜厚度/阶梯高度<0.9。影响穿遂磁阻之电子自旋偏极化率,主要为表面边界之磁化强度。
申请公布号 TW200616011 申请公布日期 2006.05.16
申请号 TW093134550 申请日期 2004.11.11
申请人 大叶大学;国立彰化师范大学 NATIONAL CHANGHUA UNIVERSITY OF EDUCATION 彰化县彰化市进德路1号 发明人 王立民;洪连辉;吴仲卿;杨鸿昌;洪姮娥
分类号 H01L21/00;G11C11/15 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 郑安全
主权项
地址 彰化县大村乡山脚路112号