| 摘要 |
本发明提供一种软微影蚀刻图章(30)及用于制造此一图章(30)之方法。依据本发明之一图章(30)包括阻挡区域(37)及印刷区域(38)。形成该等阻挡区域(37)之一材料不同于形成该等印刷区域(38)之材料，并对印刷化合物显示较小渗透性、扩散性、吸收或吸附能力，从而使得该材料可防止或明显减少该印刷化合物从该等阻挡区域化学地或物理地传输或转移至一须图案化或印刷的基板。以此方式，当采用一印刷化合物浸渍该图章(30)时，该印刷化合物仅扩散至该等印刷区域(38)中，因此该印刷化合物仅从该等印刷区域(38)转移至欲图案化的该基板，并且实质上不会发生印刷化合物经由凸出元件(32)之间空气空隙(33)扩散。 |
