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发明名称 PROCESS FOR PREPARING PHENOLIC RESIN FOR PHOTO-RESIST AND PHOTO-RESIST COMPOSITION
摘要
申请公布号 KR20060043671(A) 申请公布日期 2006.05.15
申请号 KR20050021635 申请日期 2005.03.16
申请人 SUMITOMO BAKELITE CO., LTD. 发明人 ONISHI OSAMU;ANADA KOUHEI
分类号 C08G65/40;G03F7/023;C08G8/00;C08G8/04;C08G65/46 主分类号 C08G65/40
代理机构 代理人
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