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发明名称 ETCHING SOLUTION FOR REMOVING A LOW-K DIELECTRIC LAYER AND ETCHING METHOD FOR THE LOW-K DIELECTRIC LAYER USING THE ETCHING SOLUTION
摘要
申请公布号 KR20060042738(A) 申请公布日期 2006.05.15
申请号 KR20040091503 申请日期 2004.11.10
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 KIM, MI YOUNG;LEE, HYO SAN;HONG, UK SUN;OH, JUN HWAN;LEE, SANG MIN
分类号 C09K13/06 主分类号 C09K13/06
代理机构 代理人
主权项
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