| 发明名称 | 在晶圆片上沉积薄膜的装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种薄膜沉积装置，能够有效地使用具有高汽化温度的化学品源。该薄膜沉积装置包括一用来在晶圆片上沉积薄膜的腔室、用来容纳将被送至腔室的液体化学品源的罐体，以及一用来将罐体内沸腾的液体化学品源汽化并向腔室提供汽化的化学品源的汽化器。汽化器藉助适配件安装在腔室的顶面或侧面从而与腔室结合。在适配件内，汽化器与腔室之间形成第一气体管线。 | ||
| 申请公布号 | CN1769516A | 申请公布日期 | 2006.05.10 |
| 申请号 | CN200510115502.X | 申请日期 | 2005.11.04 |
| 申请人 | 株式会社IPS | 发明人 | 林弘周;李相奎;徐泰旭;张镐承 |
| 分类号 | C23C16/448(2006.01);C23C16/30(2006.01) | 主分类号 | C23C16/448(2006.01) |
| 代理机构 | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 寿宁;张华辉 |
| 主权项 | 1、一种薄膜沉积装置，包括：一腔室，用来在晶圆片上沉积薄膜；一罐体，用来容纳将要被送至所述腔室的液体化学品源；和一汽化器，用于汽化在所述罐体内沸腾的所述液体化学品源并提供所述汽化的化学品源到所述腔室，其中，所述汽化器藉助一适配件被安装在所述腔室的顶面或侧面，从而与所述腔室结合，并且在所述适配件内，所述汽化器和所述腔室之间形成一第一气体管线。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||