Method and apparatus for immersion lithography,申请号EP20050447154-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	Method and apparatus for immersion lithography
摘要
申请公布号	EP1612609(A3)	申请公布日期	2006.05.10
申请号	EP20050447154	申请日期	2005.06.30
申请人	INTERUNIVERSITAIR MICROELEKTRONICA CENTRUM ( IMEC)	发明人	MERTENS, PAUL;FYEN, WIM
分类号	G03F7/20	主分类号	G03F7/20
代理机构		代理人
主权项
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