| 发明名称 | 磁性处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种磁性处理装置S，该磁性处理装置的磁力处理部20夹住管体1而相对设置，该磁力处理部20具有磁轭24以及设置于该磁轭24上的磁铁22，磁铁22设置在上述磁轭24的靠近管体1的一侧，同时磁铁22的不同磁极的面之间夹住管体1地相对设置，磁轭24的夹住管体1地相对的侧面大于磁铁22的相对的面，同时在前述侧面上，与磁铁22接触部分以外的侧面24a彼此相对，在磁铁22的相对方向上，磁轭24的设置有磁铁22的部位的厚度Y与磁铁22的厚度X的比例被设定在1.0至2.6的范围内。 | ||
| 申请公布号 | CN1771201A | 申请公布日期 | 2006.05.10 |
| 申请号 | CN03826563.X | 申请日期 | 2003.05.30 |
| 申请人 | 东洋纺工程株式会社;涉谷宪三 | 发明人 | 大滨一郎;小山哲司;涉谷宪三 |
| 分类号 | C02F1/48(2006.01) | 主分类号 | C02F1/48(2006.01) |
| 代理机构 | 北京君尚知识产权代理事务所 | 代理人 | 余功勋 |
| 主权项 | 1.一种磁性处理装置，其特征在于：该磁性处理装置带有夹住流路而相对设置的磁力处理部，该磁力处理部具有磁轭以及设置于该磁轭上的磁铁，上述磁铁设置在上述磁轭的靠近流路的一侧，同时磁铁的不同磁极的面之间夹住流路地相对设置，上述磁轭的侧面相对地夹住上述流路，同时该侧面大于上述磁铁的相对的面，在上述磁性处理部的相对方向上，上述磁轭的设置有上述磁铁的部位的厚度与上述磁铁的厚度的比例被设定在1.0至2.6的范围内。 | ||
| 地址 | 日本大阪市 | ||