湿式清洁工艺的监测设备及其监控方法

摘要

一湿式清洁工艺的监测设备，用于具有至少一清洁刷手臂及一流体提供单元的一湿式清洁机台，当该手臂清洁晶片时，流体提供单元提供一流体于晶片，监测设备至少包含：手臂位置感测器连接于清洁刷手臂，当清洁刷手臂清洁该物件时，手臂位置感测器被启动，及至少一流量感测单元连接于流体提供单元，当该感测器被启动时，流量感测单元被启动，以监测流体提供单元，其中，流量感测单元至少包含：发射端、接收端及浮动元件，接收端对应发射端设置，且可接收由发射端发射出的信号，浮动元件设在发射端与接收端之间，且浮动元件可相对应流体的流量变化改变位置，当流量不足时，浮动元件阻隔由发射端发射出的信号，使接收端接收不到由发射端发射出的信号。

主权项

1.一种湿式清洁工艺的监测设备，是应用于具有至少一清洁刷手臂及至少一流体提供单元的一湿式清洁机台中，且当该清洁刷手臂进行清洁一物件时，该流体提供单元也同时提供一流体于该物件，而该监测设备至少包含：一手臂位置感测器连接于该清洁刷手臂，且当该清洁刷手臂进行清洁该物件时，该手臂位置感测器同时被启动；至少一流量感测单元连接于该流体提供单元，当该手臂位置感测器被启动时，该流量感测单元同时被启动，以监测该流体提供单元，其中，该流量感测单元至少包含：一发射端；一接收端，其是相对应该发射端设置，且可接收由该发射端发射出的信号；以及一浮动元件，其是设在该发射端与该接收端之间，且该浮动元件可相对应该流体的流量变化而改变位置，当该流体的流量不足时，该浮动元件会阻隔由该发射端发射出的信号，使该接收端接收不到由该发射端发射出的信号。