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发明名称
METHOD FOR MANUFACTURING INSULATING LAYER OF SEMICONDUCTOR BY PLASMA
摘要
申请公布号
KR100580774(B1)
申请公布日期
2006.05.09
申请号
KR20040112428
申请日期
2004.12.24
申请人
DONGBU ELECTRONICS CO., LTD.
发明人
CHOI, SEUNG CHUL
分类号
H01L21/31
主分类号
H01L21/31
代理机构
代理人
主权项
地址
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