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"MéTODO E SISTEMA PARA VEDAR SUBSTRATO". é descrito um método para vedar um dispositivo de sistema microeletromecânico (MEMS) 76 das condições ambientais, no qual o dispositivo MEMS 76 é formado sobre um substrato 72, e uma vedação substancialmente hermética 78 é formada como parte do processo de fabricação do dispositivo MEMS. O método compreende formar uma vedação de metal 78 sobre o substrato próximo do perímetro do dispositivo MEMS 76 utilizando-se um método como a fotolitografia. A vedação de metal 78 é formada sobre o substrato, enquanto o dispositivo MEMS 76 retém uma camada de sacrifício entre os elementos condutores dos elementos MEMS, e a camada de sacrifício é removida após a formação da vedação e antes da fixação de um chassi 74.
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