发明名称 métodos para fabricação de moduladores interferométricos por remoção seletiva de um material
摘要 "MéTODOS PARA FABRICAçãO DE MODULADORES INTERFEROMéTRICOS POR REMOçãO SELETIVA DE UM MATERIAL". Métodos para produção de dispositivos MEMS, tais como moduladores interferométricos, envolvem a remoção seletiva de uma porção de sacrifício de um material, para formar uma cavidade interna, deixando ficar uma porção remanescente do material, para formar uma estrutura de haste. O material pode ser depositado como cobertura e alterado seletivamente, para definir as porções de sacrifício, que são removíveis seletivamente relativas às porções remanescentes. Alternativamente, uma camada de material pode ser removida lateralmente das aberturas em uma camada de cobertura. Esses métodos podem ser usados para produzir moduladores interferométricos não liberados e liberados.
申请公布号 BRPI0503945(A) 申请公布日期 2006.05.09
申请号 BR2005PI03945 申请日期 2005.09.27
申请人 IDC, LLC. 发明人 MING-HAU TUNG;PHILIP D. FLOYD;BRIAN W. ARBUCKLE
分类号 (IPC1-7):G02B26/02;G02F1/136;B81B7/02 主分类号 (IPC1-7):G02B26/02
代理机构 代理人
主权项
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