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发明名称 A METHOD FOR FORMING A METAL LINE IN SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR20060039264(A) 申请公布日期 2006.05.08
申请号 KR20040088371 申请日期 2004.11.02
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 KIM, TAE KYUNG;MYUNG, SEONG HWAN
分类号 H01L21/28 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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