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发明名称 METHODS OF FORMING LOW-K DIELECTRIC LAYERS IN SEMICONDUCTOR DEVICES
摘要
申请公布号 KR20060038868(A) 申请公布日期 2006.05.04
申请号 KR20040088040 申请日期 2004.11.01
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 AHN, JAE YOUNG;KIM, JIN GYUN;KIM, HEE SEOK;NO, JIN TAE;YANG, SANG RYOL;LEE, SUNG HAE;KIM, HONG SUK;LIM, JU WAN
分类号 H01L21/31 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
主权项
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