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发明名称 APPARATUS USED FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY COMPRISING A FILTER FOR SUPPRESSING UNDESIRED ATOMIC AND MICROSCOPIC PARTICLES FROM A RADIATION SOURCE AND FILTER USED IN SUCH AN APPARATUS
摘要
申请公布号 EP1057079(B9) 申请公布日期 2006.05.03
申请号 EP19990934347 申请日期 1999.02.19
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 SHMAENOK, LEONID
分类号 G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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