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经营范围
发明名称
Three dimensional CMOS field effect transistor and method of fabricating the same
摘要
申请公布号
KR100576361(B1)
申请公布日期
2006.05.03
申请号
KR20040019754
申请日期
2004.03.23
申请人
发明人
分类号
H01L21/8238;H01L21/336;H01L21/8242;H01L21/84;H01L27/12;H01L29/786
主分类号
H01L21/8238
代理机构
代理人
主权项
地址
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