发明名称 基于微机电系统的射频螺线管微电感的制作方法
摘要 一种微电子技术领域的基于微机电系统的射频螺线管微电感的制作方法,采用微机电系统技术,对清洗干净的玻璃衬底进行处理,得到双面套刻对准符号,以便曝光时提高对准精度;采用准-LIGA技术和厚光刻胶工艺制备线圈和连接导体的光刻胶模具;采用电镀工艺解决线圈绕线和连接导体;采用聚酰亚胺材料做绝缘层和抛光技术解决衬底的平整性;采用物理方法去除电镀用的导体,避免湿法刻蚀工艺带来的钻蚀现象。本发明解决了螺线管线圈的立体绕线及高深宽比的电镀问题,使得微电感的射频性能大大提高,具有广泛的用途。
申请公布号 CN1767098A 申请公布日期 2006.05.03
申请号 CN200510029318.3 申请日期 2005.09.01
申请人 上海交通大学 发明人 周勇;王西宁;赵小林;曹莹;高孝裕
分类号 H01F41/00(2006.01);H01L21/02(2006.01);B81B1/00(2006.01) 主分类号 H01F41/00(2006.01)
代理机构 上海交达专利事务所 代理人 王锡麟;王桂忠
主权项 1、一种基于微机电系统的射频螺线管微电感的制作方法,其特征在于,具体步骤如下:(1)在清洗处理过的玻璃衬底上淀积Cr/Cu底层,甩正胶,将玻璃衬底单面曝光、显影后,采用物理方法刻蚀Cr/Cu底层,最后用丙酮去除所有的光刻胶;溅射氧化铝薄膜,得到双面套刻对准符号;(2)在玻璃衬底的另一面淀积Cr/Cu底层,下面工艺均在此面上进行;(3)甩正胶,曝光、显影,得到底层线圈图形,然后电镀铜底层线圈;(4)甩正胶,曝光、显影,得到平面波导线的图形,电镀平面波导线,电镀材料为铜,然后去除所有的光刻胶;(5)甩正胶,曝光、显影,得到引脚的图形,电镀引脚,电镀材料为铜;(6)甩正胶,曝光、显影,得到电镀连接导体的光刻胶图形,电镀连接导体,电镀材料为铜;(7)用丙酮去除所有的光刻胶后,用物理方法刻蚀Cr/Cu底层;(8)甩聚酰亚胺、固化及抛光,甩聚酰亚胺,然后固化,抛光聚酰亚胺,直到连接导体和引脚暴露为止;(9)溅射Cr/Cu底层;(10)甩正胶,曝光与显影后,得到顶层线圈的图形,电镀顶层线圈,电镀材料为铜;(11)去除顶层光刻胶后,用物理方法刻蚀Cr/Cu底层,最终得到基于微机电系统的射频螺线管微电感。
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