气体泄漏探测器及制程气体监控

摘要

一种用于处理一个或多个平板显示器基板的等离子增强化学气相淀积系统的方法与装置，该装置包含一用来容纳气体的真空淀积腔、一用来分析该反应腔内气体并提供反馈的残余气体分析器以及一用来监控来自该气体分析器的反馈的控制器。一种用来辨识一用于处理一个或多个平板显示器基板的等离子增强化学气相淀积系统中的制程干扰的方法，该方法包括：测定作为时间函数的分压曲线的过去斜率；根据通过一残余气体分析器所测得的分压测量值来计算出一新的曲线斜率；比较该过去斜率与新斜率；以及发送一信号给一操作者。

主权项

1.一种等离子增强化学气相淀积系统，用于处理一个或多个平板显示器基板，该系统包括：一真空淀积反应腔，用于容纳气体；一残余气体分析器，用于分析所述反应腔中的所述气体，并提供反馈；以及一控制器，用以监控来自所述残余气体分析器的所述反馈。