发明名称 | 光学膜 | ||
摘要 | 公开了一种用于光学应用的膜,它有效地防止在图像显示器件,如PDP、CRT和LCD的表面上反光,显示出优良的抗划性和透光率,在各层之间提供优良的粘合性并可低成本地生产。该膜包括(A)高折射率的硬质涂布层(折射指数:1.60-1.75;厚度:2-20微米),所述高折射率的硬质涂布层包括(a)具有针状的锑掺杂的氧化锡(沿着主轴的平均粒径为0.05-10微米,平均长径比为3-100),(b)至少一种其它的金属氧化物,和(c)用电离辐射固化的材料,和(B)低折射率的层(折射指数:1.30-1.45;厚度:40-200纳米),其中在基底膜的至少一面上按序层压所述层(A)和(B)。 | ||
申请公布号 | CN1768278A | 申请公布日期 | 2006.05.03 |
申请号 | CN200480008717.5 | 申请日期 | 2004.03.26 |
申请人 | 琳得科株式会社 | 发明人 | 所司悟;小野泽丰 |
分类号 | G02B1/11(2006.01) | 主分类号 | G02B1/11(2006.01) |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 陈季壮 |
主权项 | 1.用于光学应用的膜,它包括(A)高折射率的硬质涂布层,所述高折射率的硬质涂布层包括(a)沿着主轴平均粒径为0.05-10微米和平均长径比为3-100的针状锑掺杂的氧化锡,(b)至少一种其它的金属氧化物,和(c)用电离辐射固化的材料,且该层的折射指数范围为1.60-1.75和厚度范围为2-20微米,和(B)低折射率的层,所述低折射率的层的折射指数范围为1.30-1.45,和厚度范围为40-200nm,其中在基底膜的至少一面上按序层压层(A)和(B)。 | ||
地址 | 日本东京都 |