发明名称 半导体装置及其制造方法
摘要 〔解决手段〕实质提供一种晶片尺寸的半导体装置,其包括:具有积体电路及连接垫(2)的半导体基板(1);电性连接于上述连接垫(2)的外部连接用电极(9);设于上述外部连接用电极(9)周围之上述半导体基板(1)上的第1封装材(10),而上述第1封装材(10)内所含有的Na离子、K离子、Ca离子及Cl离子的各杂质浓度为10ppm以下;及设于上述半导体基板(1)之下面及周侧面的至少任一处的第2封装材(12),而上述第2封装材(12)内所含有的Na离子、K离子、Ca离子及Cl离子的合计杂质浓度为100ppm以上。
申请公布号 TW200614404 申请公布日期 2006.05.01
申请号 TW094131762 申请日期 2005.09.15
申请人 尾计算机股份有限公司 发明人 若林猛;三原一郎
分类号 H01L21/60 主分类号 H01L21/60
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本