| 摘要 |
本发明之目的是提供曝光装置，设有多个雷射模组用来对从多个雷射二极体射出之雷射光进行合波，对从该雷射模组射出之雷射光进行聚焦，将该聚焦光照射在曝光面，其中从雷射二极体、雷射模组射出之雷射光之光量和聚焦光之光量之各个，利用一种之光电感测器进行检测。本发明之解决手段是在检测从雷射二极体射出之雷射光之光量时，检测在光学滤光器FL被反射之透过光学滤光器FL之雷射光，另外，在检测从雷射模组射出之雷射光之光量之情况时，检测在光学滤光器FL，FM被反射之透过光学滤光器FH之雷射光，另外，在检测聚焦光之光量时，检测在光学滤光器FL、FM、FH被反射之雷射光，用来检测以不同之衰减率被衰减之雷射光。 |
