乾蚀刻介电层之方法

摘要

一种乾蚀刻介电层的方法，可防止或大幅降低深紫外线对光阻之损害及鸟嘴问题的产生。此乾蚀刻方法至少包含下列步骤。提供一具有介电层之基材，介电层覆盖于基材之至少部份表面上。再将具有一曝光区域图案之深紫外线光阻幕罩，形成在介电层至少一部份上。并以混合气体所形成之电浆蚀刻受遮蔽的介电层，混合气体包含有气体氟化物、氢及氦。