具有防磁场干扰结构的物理气相沈积装置

摘要

一种具有防磁场干扰结构的物理气相沈积(Physical Vapor Deposition； PVD)装置，用以防止二个相邻的PVD反应室之磁场彼此互相干扰。本发明系以磁场遮蔽结构环绕二个相邻的PVD反应室其中之一，藉以隔绝PVD反应室之磁场，避免产生磁场干扰，因而改善沈积厚度的均一性(Uniformity)。又，本发明系以对称的三片隔板隔离二个相邻的PVD反应室，以防止二个相邻的PVD反应室之磁场彼此互相干扰。