发明名称 凸块制程与电镀制程
摘要 一种凸块制程与电镀制程,其中凸块制程包括下列步骤:提供一晶圆,晶圆上具有多个焊垫;在晶圆上形成一光阻层,并形成多个开口于光阻层中,且每一开口显露焊垫其中之一;在开口内之焊垫上形成多个第一合金块;在第一合金块上形成多个第二合金块;最后,去除光阻层。此种凸块制程与电镀制程能够形成材质均匀的合金凸块。
申请公布号 TW200614473 申请公布日期 2006.05.01
申请号 TW093132118 申请日期 2004.10.22
申请人 日月光半导体制造股份有限公司 发明人 黄敏龙
分类号 H01L23/48 主分类号 H01L23/48
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 高雄市楠梓加工出口区经三路26号