| 主权项 |
1.一种焦点像场校正器,包括: 一第一基板,其具在一侧面上实质呈平面之一第一 表面,及在一相反侧面上具复数个阶梯状表面之一 第二表面,其中该复数个表面中一些表面相对彼此 间非设置在一平面上;及 复数个微透镜,其中该每一透镜均设置于该复数个 表面之一表面上,且每一该透镜系设置来补偿一前 端透镜之非平面焦距像场,以在该第一基板之该第 一表面上以实质上平面呈现;以及该微透镜矩阵中 之每一微透镜实质上具有相同的宽度或直径。 2.如申请专利范围第1项之焦点像场校正器,其中该 基板及复数个微透镜系实质上呈光学透明。 3.如申请专利范围第2项之焦点像场校正器,其包括 一第二基板,其具实质上呈平面之第一表面;及 复数个光电装置,其设置于该第二基板之第一表面 上,其中该第一基板之第一表面系邻接于该第二基 板之第一表面。 4.如申请专利范围第3项之焦点像场校正器,其中该 复数个光电装置系发射器及/或侦测器。 5.如申请专利范围第3项之焦点像场校正器,其中该 第一基板之第一表面实质上系呈平面,且该第二基 板之第二表面实质上系呈平面。 6.一种光学系统,包括: 一光电装置矩阵,其实质上沿着一平面而设置;及 一微透镜矩阵,其设置邻接于该光电装置矩阵,至 少一些该微透镜非设置在同一平面上;其中 该光电装置矩阵系于一第一基板上制造;该微透镜 矩阵系于一第二基板上制造;及该第一基板邻接于 该第二基板;以及 该第一基板具在一侧面上实质呈平面之一第一表 面,及在一相反侧面上具复数个阶梯状表面之一第 二表面,该微透镜矩阵中之每一透镜均设置于该复 数个表面之一表面上,且该微透镜矩阵中之每一微 透镜系设置来补偿一前端透镜之非平面焦距像场, 以在该第一基板之该第一表面上以实质上平面呈 现;以及该微透镜矩阵中之每一微透镜实质上具有 相同的宽度或直径。 7.如申请专利范围第6项之光学系统,其中该第二基 板之一上表面包括复数个非呈平面之凹凸表面,每 一该表面接受一或多个该微透镜。 8.一种焦点像场调整器,包括: 一光电装置矩阵,其实质上呈平面设置于一第一基 板上且具一焦点像场;及 一微透镜矩阵,其紧接于该光电装置矩阵且部分呈 非平面设置,以调整该焦点像场; 其中该微透镜矩阵系设置于一第二基板上;该第二 基板具第一及第二表面;该微透镜阵矩系设置于该 第二基板之第一表面上;该光电装置矩阵系设置于 该第一基板之一第一表面上;且该第二基板之第二 表面系接附至该第一基板之第一表面;以及 该第一基板具在一侧面上实质呈平面之一第一表 面,及在一相反侧面上具复数个阶梯状表面之一第 二表面,该微透镜矩阵中之每一透镜均设置于该复 数个表面之一表面上,且该微透镜矩阵中之每一微 透镜系设置来补偿一前端透镜之非平面焦距像场, 以在该第一基板之该第一表面上以实质上平面呈 现;以及该微透镜矩阵中之每一微透镜实质上具有 相同的宽度或直径。 图式简单说明: 图1是具有前端光学装置之光电检波器矩阵之横剖 面图,而前端光学装置系设置于矩阵的上面; 图2是于图1所说明之矩阵的顶部视图; 图3是根据本发明之光学系统之横剖面图,该光学 系统包括共面微透镜之矩阵,而每个透镜则具有对 应的光电装置; 图4是根据本发明之另外光学系统之横剖面图,该 光学系统包括非共面微透镜之矩阵,而每个透镜则 具有对应的光电装置; 图5A-5E是显示说明性方法的概略图示,其系用于组 装图4之非平面微透镜; 图6是本发明的另一个光学系统之透视图; 图7是用以形成微透镜之说明性制造过程的概略图 示;及 图8(a)-(c)是显示具变化焦距之微透镜制造的概略 图示。 |
