| 主权项 |
1.一种光资讯记录媒体之制法,其系为以轨距为200~ 400nm、沟深为20~150nm、波长为450nm以下之光进行记 录再现的光资讯记录媒体之制法,其依顺序具有 在基板上形成金属反射层之金属反射层形成步骤; 藉由涂覆法在该金属反射层上形成有机色素系记 录层之记录层形成步骤;及 在该记录层上形成0.01~0.5mm的表层之表层形成步骤 ; 其中从金属反射层形成步骤结束后至表层形成步 骤开始之时间系6小时以下,且从金属反射层形成 步骤结束后至表层形成步骤开始之保存温度系20~ 25℃、保存湿度系30~ 50%。 2.如申请专利范围第1项之光记录媒体之制法,其中 金属层系藉由溅镀法来形成。 3.如申请专利范围第1或2项之光记录媒体之制法, 其中从金属反射层形成步骤结束后至表层形成步 骤开始之时间系3小时以下。 4.如申请专利范围第1或2项之光记录媒体之制法, 其中在该金属反射层形成步骤结束后,于表层形成 步骤开始前自反射层之基准面的15nm之平均突起直 径Dv系45~80nm。 图式简单说明: 第1图系在表层薄膜表面上连续设置黏合层之方法 例示的一形态所使用的黏合剂设置装置之示意剖 面图。 第2图系以保持方法使设置有光碟状黏合层之表层 薄膜略为水平积层状态之示意图。 第3图系以保持方法使设置有光碟状黏合层之表层 薄膜略为垂直积层状态之示意图。 |
