| 主权项 |
1.一种光学读写头,系用来读写两种不同资料储存 密度之光学记录媒体,其包含有: 两组光路系统,各包含有: 一雷射光束产生单元,用以产生一雷射光束,两组 该光路系统之该雷射光束的波长相异; 一导光单元,配置于该雷射光束产生单元之光路上 ,该导光单元系引导该雷射光束产生单元之该雷射 光束行进; 一聚焦物镜,自该导光单元接收该雷射光束,使该 雷射光束通过该聚焦物镜并聚焦于该光学记录媒 体之资料面;及 一光侦测器,用以接收自该光学纪录媒体反射之该 雷射光束,该雷射光束经该光学记录媒体反射后, 携带有该资料面所记录的光资料讯号,该雷射光束 再返回该导光单元,并由该导光单元引导至该光侦 测器; 其中,两组该光路系统由各自之该导光单元引导之 该雷射光束的光路系呈现互相交叉之设置。 2.如申请专利范围第1项所述之光学读写头,其中该 两组光路系统之交叉角度为30至150度。 3.如申请专利范围第1项所述之光学读写头,其中该 雷射光束产生单元包含一雷射二极体与一绕射光 栅,该雷射二极体发出该雷射光束,绕射光栅则将 该雷射光束分为读取及循轨的该雷射光束。 4.如申请专利范围第1项所述之光学读写头,其中该 导光单元包含一分光镜、一准直镜及一摺叠镜,该 分光镜先反射该雷射光束产生辈元所产生之该雷 射光束,使该雷射光束经过该准直镜成为平行光, 再经由该摺叠镜转变平行光方向至该聚焦物镜,使 该雷射光束通过该聚焦物镜并聚焦于该光学记录 媒体之该资料面,并经该资料面反射该雷射光束返 回该导光单元,传送该雷射光束至该光侦测器。 5.如申请专利范围第1项所述之光学读写头,更包含 一凹透镜,设置于该雷射光束进入该光侦测器前的 光路上。 6.一种光学读写头,系用来读写两种不同资料储存 密度之光学记录媒体,其包含: 两组光路系统,系引导两雷射光束通过两聚焦物镜 聚焦于该光学记录媒体之资料面,两雷射光束的光 路系呈现互相交叉之设置; 一致动器,用以装设两组该光路系统,其包含有: 一物镜承载座,该聚焦物镜设置于该物镜承载座之 顶面; 一组聚焦线圈,设置于该物镜承载座上,使其感应 磁场方向为该聚焦物镜的一聚焦方向; 一组循轨线圈,设置于该物镜承载座上,使其感应 磁场方向垂直于该聚焦方向,以作为一循轨方向; 一磁路装置,用以产生一磁场,该磁场的方向平行 于该循轨线圈的感应磁场方向,且该磁场方向垂直 于该聚焦线圈的感应磁场方向,该磁路装置并使该 聚焦线圈与该循轨线圈受到该磁场作用;及 复数个金属导线,用以支撑该物镜承载座,并使该 物镜承载座可沿该聚焦方向及该循轨方向作动。 一上盖,用以防止该致动器可动部超出运动范围, 并避免可动部受到外力冲击。 7.如申请专利范围第6项所述之光学读写头,其中该 两组光路系统之交叉角度为30至150度。 8.如申请专利范围第6项所述之光学读写头,其中该 物镜承载座之侧面具有复数个第一突出件与复数 个第二突出件,该第一突出件上各有一锥状开口, 每个该锥状开口恰可以提供一根该金属导线穿过, 该第二突出件则与该聚焦线圈或该循轨线圈之末 端接触。 9.如申请专利范围第6项所述之光学读写头,其中该 磁路装置系由一轭铁与一个以上之磁铁所组成,该 轭铁含有一个以上之侧墙以及与对应于该侧墙的 一内侧墙,该磁铁吸附于该侧墙以产生该磁场,该 内侧墙则用以将物镜承载座固定于该轭铁。 10.如申请专利范围第9项所述之光学读写头,其中 该侧墙的两侧往该磁铁方向延伸出一弯折件,该弯 折件之折弯角度可为10度至120度以导引该磁场的 磁力线分布。 11.如申请专利范围第9项所述之光学读写头,其中 该轭铁的底部具有圆弧型的突出。 12.如申请专利范围第9项所述之光学读写头,其中 更包含一阻尼承载座,该阻尼承载座以一螺丝装设 于该轭铁,使该阻尼承载座以该螺丝为中心轴相对 于该轭铁旋转,以调整倾斜角度。 13.如申请专利范围第9项所述之光学读写头,其中 更包含一电路板,该电路板接合于该阻尼承载座的 表面,且该金属导线导通于该电路板。 图式简单说明: 第1图为本发明实施例之示意图;及 第2图为本发明实施例之致动器示意图。 |
