| 摘要 |
本文揭示一种电浆处理装置，其中在一真空腔室中产生电浆以使用该电浆处理半导体基板。该装置包括一基板安装台、一外部提升杆、以及一挡板。该外部提升杆包括一驱动轴、以及一基板支撑元件，该支撑元件垂直耦接于该驱动轴之一上端。该挡板包括一挡浆板以及一防护部分，其中该挡浆板耦接至该驱动轴之上端，而该防护部分耦接至该挡浆板之一下表面。该基板支撑元件为一可折叠之基板支撑元件。该挡板与该基板支撑元件同时藉由该驱动轴上下驱动。结果是，在该电浆处理装置之操作过程中，有可能保护该基板支撑元件不受电浆之影响，且防止该挡板与该外部提升杆之间之干扰。 |
