发明名称 |
图型微细化用之被覆形成剂及使用其之微细图型之形成方法 |
摘要 |
本发明系提供一种被覆于具有光阻图型之基板上,利用该被覆之热收缩作用缩小光阻图型间隔后,实质上完全去除该被覆后为形成微细图型所使用之被覆形成剂,其特征为含有(a)水溶性聚合物与(b)至少同一环中具2个以上氮原子之杂环式化合物单体之图型微细化用之被覆形成剂及使用该图型微细化用被覆形成剂之微细图型形成方法。本发明可以维持图型形状呈均匀热收缩率下进行形成微细图型,特别是形成椭圆形状之通孔图型中,可维持高度热收缩率,维持椭圆之短轴径与长轴径之比率状态下取得热收缩、微细化之椭圆形通孔图型。 |
申请公布号 |
TW200614345 |
申请公布日期 |
2006.05.01 |
申请号 |
TW094128435 |
申请日期 |
2005.08.19 |
申请人 |
东京应化工业股份有限公司 |
发明人 |
菅田祥树;上野直久;立川俊和 |
分类号 |
H01L21/027;G03F7/004;C08F2/06 |
主分类号 |
H01L21/027 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 |