形成抗反射膜用组成物、由该形成抗反射膜用组成物所成抗反射膜、及使用该形成抗反射膜用组成物形成光阻图型之方法

摘要

本发明的课题为提供难挥发性而涂敷性良好之形成抗反射膜用组成物，特别是于193nmArF准分子雷射光源曝光时抑制反射光的不良影响之良好涂敷性的形成抗反射膜用组成物，更具有高蚀刻特性，由无空孔之该形成抗反射膜用组成物所成之抗反射膜，及使用该形成抗反射膜用组成物之光阻图型的形成方法。其解决手段为本发明的形成抗反射膜用组成物，系由含(A)难挥发性光吸收化合物，(B)矽氧烷聚合物，(C)溶剂所成之形成抗反射膜用组成物所构成，(A)成分为使用苯基烷氧基矽烷的水解反应生成物。