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发明名称
正型敏辐射线性树脂组成物
摘要
本发明之课题系提供一种可以高精度形成凸块或配线等厚膜之电镀造形物的制造方法,适用此制造方法之感度,解像度等优异之正型敏辐射线性树脂组成物及使用该组成物之转印薄膜。上述课题之解决方法系一种正型敏辐射线性树脂组成物,其系含有:(A)含有下述一般式(1)及/或(2)所示构造单位(a)与酸解离性官能基(b)之聚合物,(B)藉由辐射线照射产生酸之成分及(C)有机溶剂及使用该组成物制造正型敏辐射线性树脂膜。094109143-p01.bmp
申请公布号
TW200613915
申请公布日期
2006.05.01
申请号
TW094109143
申请日期
2005.03.24
申请人
JSR股份有限公司
发明人
西川耕二;岩永伸一郎
分类号
G03F7/039;C08F220/58;C08F220/30;H01L21/027
主分类号
G03F7/039
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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