发明名称 印刻微影装置,装置制造方法及其所制造之装置
摘要 本发明揭示一种印刻微影装置,其包括:一模板(34)、一基板台(31)及一经设置以使模板(34)与一提供于一基板(30)上之基板对齐标记(39、39’)对齐之对齐系统(35、36、37)。基板台(31)经设置以支撑基板(30),基板(30)具有一欲被印刻之第一表面(32)及一朝向基板台(31)之第二表面(50)。该装置之特征在于,基板对齐标记(39、39’)提供于基板(30)之第二表面(50)上,且基板台(31)进一步包括一使对齐系统(35、36、37)能够看到基板对齐标记(39、39’)之基板台光学系统。本发明进一步扩展至一种装置制造方法及一种其所制造之装置。
申请公布号 TW200613927 申请公布日期 2006.05.01
申请号 TW094122207 申请日期 2005.06.30
申请人 ASML公司 发明人 彼得 田 柏基
分类号 G03F7/20;H01L21/027;H01L21/68 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰