| 摘要 |
缓和痤疮之方法包括使一广域皮肤曝光；终止皮肤曝光；及在终止后之一段延迟之后，涂覆一种益剂至广域皮肤上。曝光可为一段少于约1小时之期间，而光可适合(a)供激发与广域皮肤有关之成为适合供破坏引起痤疮微生物之高能态，或(b)供加热存在于广域皮肤内之皮脂腺中之脂肪以调节在该皮脂腺中之皮脂流动，或(c)供减轻发炎。益剂适合(a)提供抗微生物作用，其补充藉该光带对该皮脂之该调节，或补充藉该光对该发炎之减轻，或(b)提供皮脂调节作用，其补充该引起痤疮之微生物之该破坏或补充藉该光之该发炎减轻；或(c)提供消炎作用，其补充藉该光带对该皮脂之该调节或补充该引起痤疮之微生物之该破坏。此等处理可视需要予以重覆。 |
