用于浸渍曝光之保护薄膜形成组成物、及使用它之图案形成方法

摘要

本发明提供一种可在光阻膜上形成一可溶于硷显影剂之保护薄膜的保护薄膜形成组成物，亦即一种在藉浸渍曝光形成图案中会保护光阻膜隔离浸渍液体、不因浸渍液体而膨胀、可用用于显影步骤之硷显影剂将之去除、且可形成良好图案之保护薄膜，及一种使用此组成物之浸渍曝光图案形成方法，其为用于浸渍曝光之保护薄膜形成组成物，包括酸值为2.0至8.0毫当量／克之水不溶性硷溶性树脂；及一种使用此组成物之图案形成方法。