发明名称 微点印阵列即时监测系统与使用该系统之方法
摘要 本发明系关于一种微点印阵列之即时监测系统与使用该系统之方法。其中该「微点印阵列」系指点印之尺寸与点印之间距离相较之下,该等点印之尺寸极为微小者。藉由影像导引装置(如光纤)之类,仅放大每一微点印之影像,而不撷取在该等微点印之间相对广大的面积之影像,以达成以有限之观测视野,监测该等微小微点印之目标。
申请公布号 TWI254131 申请公布日期 2006.05.01
申请号 TW094100385 申请日期 2005.01.06
申请人 国立清华大学 发明人 许志;黄经龙
分类号 G01N33/53;G06F11/30 主分类号 G01N33/53
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种用以即时监测形成一阵列之复数个微点印 之系统,包含: 复数个影像导引装置,每一该影像导引装置至少具 有一接物端及一接目端,每一该接物端摄取一个或 多于一个该等微点印之影像;及 一方向导引装置,与至少一个该等影像导引装置接 触,以导引该等影像导引装置对正该微点印。 2.如请求项1之系统,其中每一影像导引装置为光纤 、微型摄影机或类似之装置。 3.如请求项1之系统,其中该方向导引装置为一框架 或一小型握持器阵列。 4.如请求项3之系统,其中该框架具有至少一第一穿 透阵列层与一第二穿透阵列层,该等影像导引装置 或光纤穿透该第一穿透阵列层与该第二穿透阵列 层,以确定该等影像导引装置或光纤之角度与方向 。 5.如请求项4之系统,其中该第一穿透阵列层与该第 二穿透阵列层之间另存在一弹性层,该弹性层被该 等影像导引装置或光纤穿透,并接触该等影像导引 装置,藉以在被该第一穿透阵列层与该第二穿透阵 列层挤压时,固定该等影像导引装置或光纤之位置 。 6.如请求项5之系统,其中该第一穿透阵列层与该第 二穿透阵列层为铁弗龙材质。 7.如请求项5之系统,其中该弹性层为与该等光纤数 目相等之具弹性之橡胶O形环。 8.如请求项5、6或7之系统,其中该框架另包含一影 像撷取层,其位于该框架之最外层并在该等影像导 引装置或光纤之接物端侧,其功用为撷取该等微点 印之影像,并交递给该等影像导引装置或光纤之该 等接物端。 9.如请求项8之系统,其中该影像撷取层为一玻璃板 ,在其向着框架外侧方向之外表面上,具有至少一 个透镜或透镜组。 10.如请求项9之系统,其中该等透镜或透镜组可同 时撷取多于一个微点印之影像。 11.如请求项9之系统,其中该等透镜或透镜组与该 玻璃板之间系以光学胶黏合。 12.如请求项9之系统,其中该等透镜或透镜组与该 玻璃板之折射系数实质上相等。 13.如请求项9之系统,其中该玻璃板与该等光纤之 该等接物端接触,接触面并以和该等光纤折射系数 实质相等之物质涂布,以确保该等接触面为完全紧 密接触而无空隙。 14.如请求项8之系统,其中从一微点印来的一光线 在该玻璃板内行进,其将离开该玻璃板时之方向和 一光纤与该玻璃板之该接触面法线方向一致,其中 该光纤为该光线将进入者。 15.如请求项1之系统,该等影像导引装置之该等接 目端之影像可被排列集中,以便利在一有限之观测 视野内,检阅每一微点印放大后之影像。 16.如请求项14之系统,该等光纤之该等接目端之影 像可被排列集中,以便利在一有限之观测视野内, 检阅每一微点印放大后之影像。 17.一种使用如请求项1之系统的方法,其中: 该等影像导引装置对正该等微点印,其可能为一影 像导引装置对正一微点印,复数个影像导引装置对 正一个微点印,或一个影像导引装置同时对正复数 个微点印; 仅放大该等微点印之影像,而不撷取在该等微点印 之间,相对于该等微点印而言十分广大的间隔空间 之影像。 18.一种使用如请求项14之系统的方法,其中: 该等透镜或透镜组对正该等微点印,可为一透镜或 透镜组对正一微点印,复数个透镜或透镜组对正一 个微点印,或一个透镜或透镜组同时对正复数个微 点印;以及 仅放大该等微点印之影像,而不撷取在该等微点印 之间,相对于该等微点印而言十分广大的间隔空间 之影像。 图式简单说明: 图1为一载玻片上具有复数个微点印之示意图。 图2为本发明之概念示意图,即为将图1中载玻片上, 该等微液滴之影像,以至少一个影像导引装置导引 并集合至一有限的观测视野中。 图3为根据本发明之一具体实施例之立体示意图。 图4为图3中具体实施例之分解图。 图5为图3中具体实施例沿5-5线纵切之剖面图。
地址 新竹市光复路2段101号