DISPOSITIVO PARA EL TRATAMIENTO DE UN SUSTRATO POR MEDIO DE RADIACION LASER.

摘要

Dispositivo para el tratamiento de un substrato por medio de radiación láser, con un espejo giratorio poligonal (16), a través del cual se refleja al menos un rayo láser incidente y que es giratorio por medio de una disposición (24) de lentes convergentes (241 ¿ 24n) que están adyacentes entre sí, que están dispuestas a una distancia del substrato (10) que corresponde a su distancia focal, caracterizado porque el espejo giratorio poligonal (16) está dividido en al menos dos zonas (16¿, 16¿) que presentan un número diferente de facetas y porque el espejo giratorio poligonal (16) se puede ajustar de tal manera que se pueden introducir diferentes zonas (16¿, 16¿) en la trayectoria de los rayos de la radiación láser y se pueden ajustar ángulos de exploración o ángulos de barrido correspondientemente diferentes del rayo láser reflejado por el espejo giratorio poligonal (16).