Substrat für Maskenrohling, Maskenrohling, Belichtungsmaske, Herstellungsverfahren für Maskenrohlingssubstrat und Herstellungsverfahren für Halbleiter

摘要

In einem Maskenrohlingssubstrat, das durch einen Maskentisch eines Belichtungssystems aufgespannt werden soll, ist die Ebenheit eines rechteckigen Ebenheitsmeßbereichs, mit Ausnahme eines Bereichs 2 mm einwärts von einer äußeren Umfangsendfläche, auf einer Hauptfläche des Maskenrohlingssubstrats auf dessen durch den Maskentisch aufzuspannenden Seite kleiner oder gleich 0,6 mum und mindestens drei von vier Eckabschnitten des Ebenheitsmeßbereichs weisen jeweils eine zur äußeren Umfangsseite hin ansteigende Form auf.