发明名称 |
氮化镓单晶膜的制造方法 |
摘要 |
一种氮化镓单晶膜的制造方法,在传统的衬底、氮化镓缓冲层的基础上,将衬底加热到900-1100℃,生长一层富镓的第二氮化镓缓冲层,再在该缓冲层上生长所需的氮化镓晶体叠层。本发明工艺简单,生长的缓冲层结晶性能好,并具有大量的氮空位来弛豫衬底各氮化镓晶体之间的应力,可使生长于该缓冲层之上的氮化镓叠层具有良好的结晶品质,且不会产生裂纹。 |
申请公布号 |
CN1253611C |
申请公布日期 |
2006.04.26 |
申请号 |
CN01116770.X |
申请日期 |
2001.04.24 |
申请人 |
江西方大福科信息材料有限公司 |
发明人 |
江风益;王立;李述体;莫春兰;彭学新;熊传兵;李鹏 |
分类号 |
C30B25/02(2006.01);C30B29/38(2006.01);H01L21/20(2006.01) |
主分类号 |
C30B25/02(2006.01) |
代理机构 |
江西省专利事务所 |
代理人 |
胡里程 |
主权项 |
1、一种氮化镓单晶膜的制造方法,在蓝宝石衬底上生成第一、第二氮化镓缓冲层,再在第二缓冲层上生长氮化镓单晶膜,其特征是在第一氮化镓缓冲层生长完成后,将衬底加热到900-1100℃,通入大量H2作载气,以100<V/III<500的氨气和三甲基镓混合气,生成一层厚度为0.5-4.0μm的第二氮化镓缓冲层。 |
地址 |
330029江西省南昌市高新技术开发区 |